在工業(yè)生產(chǎn)的龐大體系中，工業(yè)噴嘴作為承載關(guān)鍵功能的核心元件，其設(shè)計(jì)精度與制造質(zhì)量直接決定了流體介質(zhì)的形態(tài)控制效能。從直噴、扇形擴(kuò)散到錐形聚焦，不同結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)對應(yīng)著噴涂、清洗、冷卻等核心工藝的穩(wěn)定性與可靠性。尤其在精細(xì)霧化領(lǐng)域，微孔結(jié)構(gòu)是實(shí)現(xiàn)均勻噴涂的核心要素，其精度直接影響汽車涂裝的光澤一致性、半導(dǎo)體封裝的潔凈度、生物醫(yī)藥的精準(zhǔn)給藥效率以及能源化工的反應(yīng)速率。

然而，傳統(tǒng)制造技術(shù)受限于機(jī)械加工瓶頸，長期面臨孔道流阻異常、加工精度不足、材料適配性弱三大痛點(diǎn)，制約了工業(yè)流程的穩(wěn)定性與產(chǎn)品品質(zhì)上限。面對這一產(chǎn)業(yè)共性挑戰(zhàn)，摩方精密依托自主創(chuàng)新的面投影微立體光刻（PμSL）技術(shù)，以高精度和多性能材料體系，為工業(yè)生產(chǎn)關(guān)鍵部件提供跨尺度加工能力。

[ 01 ] 精密之核：從科研到工業(yè)全面覆蓋

噴嘴的效能瓶頸，往往始于進(jìn)出口直徑這一臨界尺度，摩方PμSL技術(shù)可精準(zhǔn)控制超高精度流道直徑，消除傳統(tǒng)加工導(dǎo)致的階梯狀流道突變，確保微孔內(nèi)壁光潔度，從根源上杜絕流阻異常點(diǎn)。

在科研領(lǐng)域，南洋理工大學(xué)王一凡教授課題組在其實(shí)驗(yàn)中采用摩方nanoArch® S140（精度：10μm）制備出同軸噴嘴，賦能直接墨水寫技術(shù)，成功構(gòu)建了用于生產(chǎn)具有可定制截面形狀的同軸電靜力纖維，為電靜力設(shè)備的制造提供了一種全新的高效、靈活的解決方案。

在工業(yè)應(yīng)用端，摩方高精度工業(yè)級3D打印系統(tǒng)：microArch® S150（精度：25μm），可用于制備精密噴嘴結(jié)構(gòu)，整體尺寸為8.09×8.09×19.9mm3，出口直徑為150μm，實(shí)證了微納增材制造技術(shù)的普適價(jià)值與產(chǎn)業(yè)化能力。該設(shè)備集搭載工業(yè)級免調(diào)平系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)“一鍵啟動"的高效作業(yè)模式，顯著提升復(fù)雜流道結(jié)構(gòu)的成型效率。另配置液槽加熱系統(tǒng)，保障高粘度樹脂及陶瓷漿料在微孔流道中保持穩(wěn)定流態(tài)，攻克了化工噴涂場景中因溫度波動導(dǎo)致的流阻異常問題。

同時(shí)，microArch® S150還標(biāo)配一體化觸摸屏，搭載類金剛石（DLC）涂層平臺，結(jié)合HEPA13級新風(fēng)過濾系統(tǒng)（過濾效率99.95%）與紫外消毒模塊的“雙保險(xiǎn)"機(jī)制，不僅構(gòu)建了潔凈作業(yè)環(huán)境，更在半導(dǎo)體封裝、醫(yī)療器械制造等場景中實(shí)現(xiàn)連續(xù)高強(qiáng)度作業(yè)，將工業(yè)級穩(wěn)定性的定義提升至新高度。

S150創(chuàng)新引入模塊化液槽設(shè)計(jì)，支持T5（5ml）與T20（20ml）規(guī)格的快速切換，尤其適用于微流控芯片、藥物緩釋器件、工業(yè)噴嘴等小批量精密部件的快速試制。這種“精準(zhǔn)供料-高效輸出"的協(xié)同機(jī)制，為制造業(yè)提供了兼具經(jīng)濟(jì)性與時(shí)效性的精密制造解決方案。

[ 02 ] 智能協(xié)同：全鏈路精密制造生態(tài)

摩方從不止于設(shè)備輸出，更致力于構(gòu)建“技術(shù)-材料-應(yīng)用"全鏈路精密制造生態(tài)。在精密陶瓷加工領(lǐng)域，突破性實(shí)現(xiàn)14μm級極限孔徑精密加工能力。利用摩方精密微納3D打印技術(shù)，可精準(zhǔn)構(gòu)建梯度孔隙與三維微通道等復(fù)雜異形結(jié)構(gòu)，消除流體傳輸過程中的阻滯異常點(diǎn)，其多元材料兼容性，保障各類材料連續(xù)作業(yè)中維持穩(wěn)定流態(tài)分布，顯著提升跨領(lǐng)域應(yīng)用適配性。

基于核心科技實(shí)力，摩方技術(shù)已吸引全球40個(gè)國家客戶群體，涵蓋德國BANTLE 3D、Horizon等全球行業(yè)創(chuàng)新企業(yè)，共同推動精密陶瓷、半導(dǎo)體芯片及工業(yè)級噴嘴等領(lǐng)域的工藝創(chuàng)新。未來，摩方精密將持續(xù)深化技術(shù)創(chuàng)新，通過突破高精度制造核心壁壘，賦能工業(yè)領(lǐng)域降本增效，助力中小企業(yè)突破技術(shù)門檻，穩(wěn)步降低對進(jìn)口設(shè)備的依賴程度。